Главные новости IT

Не является секретом, что любой шаг в изучении свежих техпроцессов даётся изготовителям микроэлектроники всё сложнее. На бумаге всё смотрится просто и пестро, однако на самом деле создатели приблизились к лимиту, устанавливаемому законами физики, и любой метр нужно практически выбивать у них с битвой. Неспроста большие изготовители микроэлектроники тратят миллионы долларов США на изучения и свежие подготовки в данной области. В роли образца можно привести Intel, которая полагает, что может достичь изучения 10-нанометрового техпроцесса без использования литографии необычного ультрафиолета (EUV). Очень серьёзное объявление, особенно, что был упомянут и следующий, 7-нанометровый процесс.

Не стоит забывать, что в сфере изготовления всеохватывающих чипов есть собственные «сероватые кардиналы», без которых такие повелители рынка, как Intel, могли быть беззащитны. Речь идёт о производителях оснащения для узкой фотолитографии, а лидером в их числе и самым крупным продавцом такого оснащения считается ASML Holdings. Данная организация назвала, что начало на самом деле глобального изготовления и поставок систем необычной УФ литографии рассчитано на 2016 год. На самом деле, само собой, сроки могут быть скорректированы — всё находится в зависимости от результатов в доведении технологии EUV до достоинства.

На данный момент ASML обладает 2-мя технологиями EUV — NXE:3100 и NXE:3300B. Заключительная, не менее идеальная модель, рассчитана на обработку приблизительно 125 кремниевых подложек в час. Пока было реализовано всего 11 комплексов NXE:3300B, причём за прошедший год установлено клиентам лишь 3. Ещё 5 будут отгружены позже, а остальные поработают базой для модернизации в NEX:3350B. Нужно сообщить, что информация о заказчиках ASML Holdings хотя и считается скрытой, однако утаить такого заказчика, как Intel, просто нельзя, особенно, что как раз Intel принадлежит 15 % активов ASML, а объём инвестиций с её стороны превосходит 4,1 миллиона долларов. Другими словами, Intel обретет оснащение для необычной УФ литографии в числе первых. Это очень комфортный «запасной вариант» на тот пример, если организация всё-таки не может неплохо изучить 10 либо 7-нанометровый процесс без использования EUV.